半导体清洗，是芯片制造过程中步骤排在首位的工艺，约占所有芯片制造工序步骤的30%。每一步刻蚀、薄膜沉积、离子注入、抛光等重复工序后，均需要一步清洗工序。菏泽力芯电子科技有限公司是半导体清洗设备等产品专业生产加工的公司，并长期为国外流体工业供应各种流体...

当我们谈论芯片产业时，首先想到的就是光刻、刻蚀、沉积、离子注入、化学机械抛光（CMP）等工艺，在过去的一段时间内，《每日财报》基本对这些环节实现了覆盖。 今天要讲的是一个看起来不起眼但同样重要的环节——清洗。半导体清洗主要是为了去除芯片生产中产生的各...

手动湿法清洗机是一种常见的清洗设备，广泛应用于各个行业和领域。它的工作原理是通过水和清洗剂的喷洒，将污垢和污渍从物体表面清洗掉，达到清洁的效果。下面将围绕手动湿法清洗机展开介绍。 首先，手动湿法清洗机的设计结构相对简单，操作方便。它通常由一个水...

在空气中或有氧存在的加热的化学品清洗池中均可产生氧化反应。通常在清洗池中生成的氧化物，尽管很薄(10~20nm)，但其厚度足以阻止晶圆表面在以后的工艺过程中发生正常的化学反应。这一薄层氧化物隔离了晶圆表面与导电的金属层之间的接触。 有氧化物的硅片表面具有...